+ 국명 : 진동시료형자화율측정기 + 측정온도 : 30 K - 1273 K + 최대인가자장 : 2.0 Tesla + 측정시료 : Thin Film, Powder, Bulk + Magnetization, Coercivity,    Curie Temperature, etc.       + 국명 : 극저온 진동시료형자화율측정기 + 측정온도 : 4.2 K - 350 K + 최대인가자장 : 2.0 Tesla + 측정시료 : Thin Film, Powder, Bulk + Magnetization, Coercivity,    Curie Temperature, etc.              + 국명 : 투과형 뫼스바우어 분광기 (Moss A) + 측정온도 : 11 K - 800 K + 측정시료 : Powder       + 국명 : 투과형 뫼스바우어 분광기 (Moss B) + 측정온도 : 11 K - 800 K + 측정시료 : Powder       + 국명 : 투과형 뫼스바우어 분광기 (Moss D) + 측정온도 : 4.2 K - 300 K + 측정시료 : Powder       + 국명 : 투과형 뫼스바우어 분광기 (Moss E) + 측정온도 : 4.2 K - 300 K + 측정시료 : Powder              + 국명 : 고자기장 투과형 뫼스바우어 분광기 (Moss F) + 측정온도 : 4.2 K - 300 K + 측정시료 : Powder + 최대인가자장 : 5.0 Tesla              + 국명 : 박막형 뫼스바우어 분광기 (Moss C) + 측정온도 : 150 K - 300 K + 측정시료 : Thin Film              + 영문명 : Molecular Beam Epitaxy              + 영문명 : Pulsed Laser Deposition + Laser : Lamda Physik KrF (248 nm) + Chamber system : PVD 사 (USA) + 증착 온도 : RT ~ 900 ℃              + 영문명 : Magnetherm + Hyperthermia 용 온도측정장치 + 가용주파수 : 50,112,168,176,261,335,474,523,632,739,987 (kHz) + 최대인가자장 : 250 G              + 국문명 : 졸-겔 시스템 + Sol-gel process + 고온열분해법 + Spin coating 용 졸 합성              + 국명 : x-선 회절분석기 + Measurement range : 0~160° + Step size range : 0.005~160° + Scan speed range : 0.001~2°/s              + 국명 : 원자현미경 + Model : CP research + Microscopy Head :    contact, non-contact, tapping mode + Resolution (X, Y : 0.1nm, Z : 0.01nm) + Scanner : X, Y 100 ㎛×100 ㎛, Z 2.5㎛ + STM, EFM, MFM 측정 가능              + 국명 : 열분석 장비 + 측정온도 : 1500℃ + Resolution : 0.1℃ to 60℃/min + sensitivity : < 5㎼, 0.1㎶ + TGA, DTA, DSC 측정가능